• Reklama
    A1 - Kabe 12.02-12.02 Julian

Szukaj

    Reklama
    B1 - IGP 2024 Julian

    ARTYKUŁY

    Wydanie nr: 5(163)/2026

    Artykuły branżowe

    Wydarzenia

    8 godzin temu  05.11.2026, ~ Administrator,   Czas czytania 10 minut

    Strona 1 z 6

    Dwie dekady działalności, tysiące spotkań, wspólnych projektów i relacji, które z czasem przerodziły się w trwałe partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska było nie tylko okazją do rozmowy o kierunkach rozwoju współczesnego przemysłu, ale przede wszystkim momentem, by spojrzeć na 20 lat obecności firmy w Polsce – ludzi, wydarzenia i decyzje, które stworzyły jej dzisiejszą pozycję. Jubileuszowe spotkanie w Pułtusku połączyło część merytoryczną z uroczystą galą 20-lecia, stając się okazją do podsumowań, podziękowań i wspólnego świętowania.

    Jak budować nowoczesną lakiernię proszkową? Jak automatyzować procesy chemiczne? W jaki sposób ograniczać koszty energii i jednocześnie zwiększać wydajność? Jak wykorzystać dane i sztuczną inteligencję w procesach przemysłowych? Na te i wiele innych pytań odpowiadali eksperci podczas V Sympozjum Haug Chemie Polska, które 10 września odbyło się w Hotelu Zamek Pułtusk – Domu Polonii. Tegoroczna edycja miała szczególne znaczenie – wydarzenie połączono z obchodami 20-lecia Haug Chemie Polska.

    Program sympozjum pokazał, jak szerokie spektrum wyzwań stoi dziś przed przedsiębiorstwami wykorzystującymi technologie chemiczne, lakiernicze i obróbkę powierzchni. Jednocześnie spotkanie było okazją do bezpośredniej wymiany doświadczeń pomiędzy producentami technologii, dostawcami rozwiązań oraz przedstawicielami przemysłu.

    Od projektu lakierni do inteligentnego procesu

    Sympozjum rozpoczęła debata ekspercka „Buduję nową lakiernię proszkową – od czego zacząć?”, prowadzona przez Dariusza Nowaka. Dyskusja koncentrowała się na praktycznych aspektach projektowania i uruchamiania nowoczesnego zakładu oraz na decyzjach, które już na etapie inwestycji wpływają na późniejszą efektywność procesu.

    Kolejne wystąpienia przeniosły uczestników w świat nowoczesnych technologii. Marcin Jeżewski (FarCo) przedstawił „Nowoczesne systemy lakiernicze FreiLacke – trendy, innowacje i zastosowanie w przemyśle”, natomiast Dariusz Nowak (Haug Chemie) omówił zagadnienia związane z automatyzacją 4.0 w nowoczesnych procesach chemicznych.

    Istotnym tematem była również jakość i powtarzalność aplikacji. Robert Tichek (Sames) w prezentacji „Czy Twój proces aplikacji miałby powody, żeby złożyć reklamację?” zwrócił uwagę na czynniki, które mogą wpływać na końcowy efekt procesu lakierniczego.

    Nie zabrakło także kwestii coraz ważniejszej dla przemysłu – efektywności energetycznej. Bartosz Klapczyński (Tiger) zaprezentował technologię Tiger Drylac FlexCURE, wskazując na jej znaczenie z punktu widzenia wydajności procesu i kontroli kosztów energii.

    Po przerwie tematyka została rozszerzona o procesy obróbki CNC. Marek Bacic (Haug Chemie) przedstawił zagadnienie nowoczesnego zarządzania chłodziwem, pokazując zależności pomiędzy zapachem, stabilnością procesu i właściwym zarządzaniem mediami stosowanymi podczas obróbki.

    Piotr Bącela (AkzoNobel) mówił o wydajności, optymalizacji procesu, analizie danych i AI, odnosząc te zagadnienia zarówno do celów środowiskowych, jak i kosztowych. Andrzej Potocki (Ecoline) przedstawił natomiast kierunki rozwoju inteligentnej inżynierii Ecoline, a Bartłomiej Golik (Wagner) zaprezentował innowacyjne rozwiązania w lakierowaniu proszkowym na przykładzie technologii Wagner. Program części merytorycznej zamknęła Sylwia Maliszewska, która omówiła BHP przy produktach Haug Chemie.

    GALERIA ZDJĘĆ

    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska
    Technologie, ludzie i 20 lat partnerstwa. V Sympozjum Haug Chemie Polska