• ReklamaA1 - silpol v2

Szukaj

    ReklamaB1 - EcoLine 04.2021-12.2024 Bogumiła

    Aktualności i przegląd rynku

    Wydanie nr: 4(54)/2008

    Aktualności i przegląd rynku

    Urządzenia Lakiernicze

    ponad rok temu  01.07.2008, ~ Administrator,   Czas czytania 5

    Strona 2 z 3

    595087.jpg

    Taka konstrukcja reflektora umożliwia uzyskanie bardzo dużej gęstości mocy na utwardzanej powierzchni oraz w pewnym zakresie pozwala na tzw. utwardzanie 3D. Jako opcja dostępne są również reflektory o zmodyfikowanym kształcie.

    Parametry

    Proces utwardzania UV jest wynikową cech charakterystycznych trzech elementów: podłoża, powłoki, lampy. Cechy te opisane są za pomocą pewnych parametrów, które pozwalają na prawidłowe zaprojektowanie całego systemu utwardzania. Pomijając parametry podłoża i powłoki, element lampy charakteryzują następujące parametry:

    - widmo emisji promieniowania,

    - natężenie promieniowania, zwane również irradiacją lub intensywnością,

    - efektywna energia promieniowania,

    - emisja ciepła.

    Widmo emisji promieniowania określone jest przez wartość mocy promieniowania w stosunku do długości fali. W przypadku lamp produkcji Fusion UV Systems dostępne są trzy podstawowe widma emisji przedstawione na rys. 4.

    595088.jpg

    Natężenie promieniowania wynika pośrednio z mocy promieniowania lampy, nie należy jednak mylić tych dwóch pojęć. Moc lampy określana jest na jednostkę jej długości:

    Moc lampy [W/cm] = (Moc promieniowania)/(Długość lampy)

    natomiast natężenie promieniowania:

    Natężenie promieniowania [W/cm2] = (Moc dostarczona do powierzchni)/(Pole powierzchni)

    Aby określić efektywne natężenie promieniowania należy je zmierzyć miernikiem natężenia. Otrzymane wyniki mogą być porównywane tylko i wyłącznie, gdy pomiary były przeprowadzone za pomocą tego samego miernika. Wynika to z różnych zakresów pomiarowych i charakterystyk samych przyrządów pomiarowych. Zgodnie z prawem Lamberta – Beera, im większa wartość natężenia promieniowania, tym większa głębokość utwardzania. Efektywna energia promieniowania określana jest często, aczkolwiek błędnie jako dawka promieniowania potrzebna do utwardzenia powłoki. Podanie wartości tego parametru oddzielnie nie jest bezpośrednio użyteczną informacją ze względu na potrzebę jednoczesnego określenia czasu procesu:

    Energia promieniowania [Ws/cm2=J/cm2] =(Natężenie promieniowania)*( Czas)

    Dobrze zagadnienie to ilustruje tzw. profil natężenia promieniowania. Jest on uzależniony od odległości od lampy oraz od szybkości przemieszczania się utwardzanej powierzchni pod lampą rys. 5.

    595089.jpg

    Emisja ciepła stanowi problem, który może być związany z wrażliwością materiału podłoża i powłoki na temperaturę. Źródłem energii cieplnej jest szklana bańka lampy. Z prawa Stefana – Boltzmanna wynika, że energia ta jest tym większa, im większa jest powierzchnia tej bańki:

    Komentarze (0)

    dodaj komentarz
    Aby dodać komentarz musisz podać wynik
      Nie ma jeszcze komentarzy...