Przygotowanie Powierzchni

Dziś praktycznie nie ma ograniczeń w stosowaniu tworzyw sztucznych – od technologii medycznej, poprzez inżynierię samochodową i elektronikę, aż po artykuły gospodarstwa domowego i produkty rekreacyjne – wszechstronne polimery zapewniają innowacyjne rozwiązania. Jednak niezależnie od tego, czy komponenty są formowane wtryskowo, czy mechanicznie, na ich powierzchni znajdują się pozostałości, które należy usunąć w celu dalszej obróbki, zapewnienia wysokiej jakości lub w celu zagwarantowania perfekcyjnego działania detali i komponentów. Jeśli chodzi o zadziory i pozostałości z mediów technologicznych, rozwiązanie quattroClean jest skuteczną i wydajną alternatywą dla tego typu obróbki, szczególnie w przypadku twardych i kruchych tworzyw sztucznych, takich jak siarczek polifenylenu (PPS) i polieteroeteroketon (PEEK).

Przyjazny dla środowiska, skuteczny, a także suchy etap przetwarzania

Modułowy system quattroClean współpracuje z ciekłym dwutlenkiem węgla, który ma praktycznie nieograniczony okres przydatności i jest wytwarzany jako produkt uboczny z procesów chemicznych czy wytwarzania energii z biomasy. CO2 jest dla środowiska neutralnym, niepalnym i nietoksycznym gazem.
W procesie usuwania zadziorów i czyszczenia powierzchni dwutlenek węgla jest doprowadzany przez niezużywającą się dwuskładnikową dyszę pierścieniową systemu quattroClean, rozszerzając się w miarę wylotu z dyszy tworzy drobny śnieg (suchy lód), który jest następnie wiązany w płaszczu za pomocą strumienia sprężonego powietrza i przyspiesza do prędkości naddźwiękowych. Kiedy nieścierny strumień śniegu i sprężonego powietrza uderzy w obrabianą powierzchnię przy temperaturze -78,5°C, następuje połączenie efektów termicznych, mechanicznych, sublimacyjnych i rozpuszczalnikowych.

Efekt termiczny częściowo odpowiada za gratowanie. Chłodzenie udarowe powoduje, że zadziory stają się kruche. Ponadto objętość śniegu CO2 wzrasta około 600 razy, gdy zmienia się on ze stanu stałego w gazowy, tworząc w ten sposób fale mikroprężne, które rozprzestrzeniają się z dużą prędkością na powierzchni detalu. Powstała w ten sposób siła jest wystarczająco duża, aby usunąć zadziory z elementów.
Połączenie czterech mechanizmów działania ma również skuteczny i jednorodny efekt czyszczenia. System usuwa zanieczyszczenia w postaci cząstek, np. zadziory, kurz i osady, równie niezawodnie i konsekwentnie co zanieczyszczenia filmowe, takie jak pozostałości środków separujących i silikonów. Proces usuwania zadziorów i czyszczenia jest tak delikatny dla materiałów, że można go używać nawet do czyszczenia delikatnych i drobnych struktur.
Oderwane zadziory oraz inne zanieczyszczenia są usuwane z powierzchni elementu za pomocą siły aerodynamicznej sprężonego powietrza i transportowane przez układ ssący, który jest zintegrowany z jednostką przetwórczą. Ponieważ dwutlenek węgla pod ciśnieniem atmosferycznym natychmiast sublimuje, składniki są suche pod koniec etapu czyszczenia i można je dalej przetwarzać lub od razu pakować.